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可立可臥三溫區管式爐
產品型號：STGL-60-12
爐管尺寸：Φ60×1200mm
額定溫度：1200℃
控溫精度：±1℃
應用領域：應用于高等院校、科研院所、工廠企業、石油化工、航空航天等行業的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料、粉末冶金等新材料領域的燒結和高溫熱處理
真空自動進出料管式爐
產品型號：STGX-120-12F
爐管尺寸：Φ120×1500mm
應用領域：真空連續加料回轉管式爐主要應用于無機非金屬化合物材料、鋰電正負極材料、陶瓷材料、新能源和新材料行業的顆粒粉末燒結熱處理專用設備
自動進出料回轉管式爐
產品型號：STGX-60-12
應用領域：該產品廣泛應用于金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料、粉末冶金等新材料領域的燒結和高溫熱處理
1400℃旋轉管式爐
產品型號：STGX-60-14
爐管尺寸：Φ60×1000mm
額定溫度：1400℃
應用領域：用于高等院校、科研院所、工廠企業等行業實驗室高溫熱處理工藝，適用于金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料等新材料領域
1700℃大型立式管式爐
產品型號：STGL-60-17
爐管尺寸：Φ40×1500mm
額定溫度：1700℃
應用領域：立式管式爐應用于高等院校、科研院所、工廠企業、石油化工、航空航天等行業的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料、粉末冶金等新材料領域的燒結和高溫熱處理
1700℃立式真空氣氛管式爐
產品型號：STGL-40-17
爐管尺寸：Φ40×900mm
應用領域：單溫區立式管式爐應用于高等院校、科研院所、工廠企業、石油化工、航空航天等行業的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料、粉末冶金等新材料領域的燒結和高溫熱處理
1200℃立式真空氣氛管式爐
產品型號：STGL-18-12
爐管尺寸：Φ25×900mm
1200℃ CVD管式爐系統
產品型號：STGC-80-12
爐管尺寸：Φ80×1000mm
應用領域：化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成涂層或納米材料的方法，是半導體工業中用來沉積多種材料的技術，包括大范圍的絕緣材料，大多數金屬材料和金屬合金材料
底部導軌移動管式爐
產品型號：STG-245-12HG
爐管尺寸：Φ245×800mm
應用領域：管式爐應用于高等院校、科研院所、工廠企業、石油化工、航空航天等行業的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料、粉末冶金等新材料領域的燒結和高溫熱處理
1700℃三溫區高溫管式爐
產品型號：STG-100-17-3
爐膛尺寸：Φ100×1500mm
應用領域：三溫區管式爐應用于高等院校、科研院所、工廠企業、石油化工、航空航天等行業的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料、粉末冶金等新材料領域的燒結和高溫熱處理。
1700℃帶觀察窗管式爐
產品型號：STG-60-17E
爐膛尺寸：Φ60x1000mm
應用領域：1700℃管式爐應用于高等院校、科研院所、工廠企業、石油化工、航空航天等行業的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料、粉末冶金等新材料領域的燒結和高溫熱處理。
單管可移動真空氣氛管式爐
產品型號：STGX-60-12H
應用領域：高等院校、科研院所、工廠企業、石油化工、航空航天等行業的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料、粉末冶金等新材料領域的燒結和高溫熱處理
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